隨著互聯(lián)網(wǎng)的發(fā)展，各種展現(xiàn)技術的平臺層出不窮，很多人在這些平臺上進行推廣或者展示自己的技術或者產(chǎn)品。殊不知，隨著展示方式的進行，這些技術或者產(chǎn)品也暴露在更多人的面前，一旦這些產(chǎn)品或者技術具有足夠的創(chuàng)新性，如果沒有及時申請專利，除了會引起他人優(yōu)先申請之外，也會因為過早公開自己的技術或者產(chǎn)品，而喪失新穎性，失去專利授權的可能性。
某案中，A公司對“商用動漫游戲機”享有外觀設計專利的獨占實施權，B公司未經(jīng)許可擅自制造、銷售該專利產(chǎn)品。一審認定B公司對A公司的侵權行為成立。然而，在二審中，B公司提交A公司參加展會的現(xiàn)場拍攝圖，證明該專利設計在其申請日之前已經(jīng)公開為公眾所知悉，被訴侵權產(chǎn)品使用的設計屬于現(xiàn)有設計。
二審法院認定：從證據(jù)圖片所展示的背景環(huán)境及陳設布置，結合該用戶先發(fā)布了動漫參加展會邀請函，后又于展會開始當天發(fā)布了這些圖片，因此，B公司的證據(jù)已高度蓋然地證明本案專利產(chǎn)品已經(jīng)在國際產(chǎn)業(yè)展中展示，該展會的時間早于本案專利的申請日，構成使用公開。對B公司的現(xiàn)有設計抗辯予以支持，無需承擔侵權責任。
可見，如果專利在展會上公開展示后，被惡意競爭者搶先制造、銷售，這將對真正的專利權人造成極大的損失。
因此，參與展會的企業(yè)應在參加展會之前對發(fā)明創(chuàng)造提出專利申請或者對已經(jīng)在國外申請專利的展品再次在我國行使專利優(yōu)先權來獲取專利保護。
參加展會是使用公開中的一種常見方式。使用公開，包括通過制造、銷售、使用、展覽等行為使產(chǎn)品處于公眾可以獲知的狀態(tài)。相對于出版物公開，使用公開也可稱為實施公開，即不是將有關技術通過“紙上談兵”的書面文字來公開，而是將技術通過實際的應用來公開。根據(jù)《專利審查指南》的規(guī)定，使用公開行為可以包括制造、銷售、使用、展覽等。
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