ISO10110系列國際標準
ISO 10110 是一系列用于光學加工與檢驗、光學元件及系統(tǒng)的技術(shù)圖紙繪制及其技術(shù)要求的國際標準。 該標準始于 1979 年，由 ISO/TC172/SCI/WG2 起草，并于 1996 及 1997 年分兩部分內(nèi)容正式頒布實施。ISO 10110 的基礎來自于德國標準 DIN 3140.但起草專家組成員在光干涉術(shù)、表面計量術(shù)以及激光技術(shù)等領域賦予了許多新的內(nèi)容。
ISO 10110 系列標準包含多個部分，每部分針對光學元件和系統(tǒng)的不同方面進行了詳細規(guī)定。以下是一些主要部分的內(nèi)容概述：
ISO 10110-1：概述
提供了 ISO 10110 系列標準的總體介紹和框架。
ISO 10110-2：光學材料缺陷應力雙折射
規(guī)定了光學材料中應力雙折射的允許值及其測量方法。
ISO 10110-3：光學材料缺陷氣泡與雜質(zhì)
定義了光學材料中氣泡和雜質(zhì)的分類、允許數(shù)量及尺寸等要求。
ISO 10110-4：光學材料缺陷非均勻性與條紋
描述了光學材料中非均勻性和條紋的評估方法及允許范圍。
ISO 10110-5：面形偏差
規(guī)定了光學元件表面形狀偏差的公差要求，包括弧矢差、不規(guī)則度、旋轉(zhuǎn)對稱不規(guī)則度等參數(shù)的測量和計算方法。
ISO 10110-6：中心偏差
定義了光學元件中心偏差的允許范圍及其測量方法，包括基準點、線量形式表達的中心誤差等。
ISO 10110-7：表面缺陷偏差
規(guī)定了光學元件表面缺陷(如劃痕、麻點、破邊等)的允許數(shù)量、尺寸及評估方法。
ISO 10110-8：表面微觀輪廓
描述了光學元件表面微觀輪廓的測量和評估方法，包括粗糙度、波紋度等參數(shù)。
ISO 10110-9：表面處理和鍍膜
規(guī)定了光學元件表面處理和鍍膜的要求，包括鍍膜材料、厚度、均勻性等方面的規(guī)定。
ISO 10110-10：元件技術(shù)要求的格式
提供了光學元件技術(shù)要求在圖紙上的表示方法和格式要求。
ISO 10110-11：非公差數(shù)據(jù)
定義了光學元件圖紙中非公差數(shù)據(jù)的表示方法和要求。
ISO 10110-12：非球面
規(guī)定了非球面光學元件的設計、制造和檢驗要求。
ISO 10110-13：激光輻射破壞閾值
定義了光學元件在激光輻射下的破壞閾值及其測量方法。
ISO 10110 系列標準為光學元件和系統(tǒng)的制造、檢驗及質(zhì)量控制提供了全面、詳細的技術(shù)規(guī)范，對于確保光學產(chǎn)品的質(zhì)量和性能具有重要意義。
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