當(dāng)前，全球科技創(chuàng)新進入空前密集活躍的時期，新一輪科技革命和產(chǎn)業(yè)變革正在重構(gòu)全球創(chuàng)新版圖，強化標(biāo)準(zhǔn)與專利兩種戰(zhàn)略性創(chuàng)新資源協(xié)同發(fā)展的重要意義日趨凸顯。作為標(biāo)準(zhǔn)與專利深度融合的產(chǎn)物，標(biāo)準(zhǔn)必要專利已成為國際組織、全球主要國家(地區(qū))關(guān)注的戰(zhàn)略要素，也是關(guān)鍵領(lǐng)域技術(shù)、市場和產(chǎn)業(yè)競爭的焦點。
為更好落實《國家創(chuàng)新驅(qū)動發(fā)展戰(zhàn)略綱要》《國家標(biāo)準(zhǔn)化發(fā)展綱要》《知識產(chǎn)權(quán)強國建設(shè)綱要(2021—2035年)》 以及《中共中央、國務(wù)院關(guān)于加快建設(shè)全國統(tǒng)一大市場的意見》等國家綱領(lǐng)性文件部署，中國標(biāo)準(zhǔn)化研究院充分發(fā)揮國家級標(biāo)準(zhǔn)化科研機構(gòu)功能作用，在對國際、國外與國內(nèi)有關(guān)標(biāo)準(zhǔn)必要專利政策制度與實踐活動的長期觀察研判，以及對中國標(biāo)準(zhǔn)化研究院所掌握的300多萬條標(biāo)準(zhǔn)數(shù)據(jù)挖掘分析的基礎(chǔ)上，編寫形成《標(biāo)準(zhǔn)必要專利發(fā)展報告(2024年)》(以下稱“報告”)。
報告面向政府有關(guān)部門、社會團體、高等院校、研究機構(gòu)、企業(yè)以及從事標(biāo)準(zhǔn)必要專利相關(guān)工作的人員，主要回顧剖析近年來國內(nèi)外有關(guān)標(biāo)準(zhǔn)必要專利的重要政策、相關(guān)案例與數(shù)據(jù)，旨在全面、系統(tǒng)、客觀展現(xiàn)標(biāo)準(zhǔn)必要專利整體發(fā)展態(tài)勢，以提升各相關(guān)方對標(biāo)準(zhǔn)必要專利問題的認識和了解，進而更好掌握標(biāo)準(zhǔn)必要專利相關(guān)理論、政策，推動先進適用科技創(chuàng)新成果及時融入標(biāo)準(zhǔn)，加強標(biāo)準(zhǔn)制定過程中的知識產(chǎn)權(quán)保護，促進創(chuàng)新成果產(chǎn)業(yè)化應(yīng)用，更好服務(wù)于新質(zhì)生產(chǎn)力培育和發(fā)展。
報告共分為六個部分，主要內(nèi)容和觀點如下:
第一部分厘清標(biāo)準(zhǔn)必要專利概念內(nèi)涵和主體行為。從創(chuàng)新成果轉(zhuǎn)化與市場活 動等角度界定標(biāo)準(zhǔn)必要專利概念，并介紹了從標(biāo)準(zhǔn)必要專利形成、許可談判到爭議 解決各環(huán)節(jié)涉及標(biāo)準(zhǔn)必要專利的主體行為，為報告后續(xù)內(nèi)容的展開奠定基礎(chǔ)。
第二部分梳理代表性國際組織關(guān)于標(biāo)準(zhǔn)必要專利的政策與實踐。從指導(dǎo)原則、當(dāng)前實踐和戰(zhàn)略方向三個方面，介紹了世界知識產(chǎn)權(quán)組織(WIPO)標(biāo)準(zhǔn)必要專利戰(zhàn)略的主要內(nèi)容。跟蹤國際標(biāo)準(zhǔn)化組織(ISO)、國際電工委員會(IEC)和國際電信聯(lián)(ITU)三大國際標(biāo)準(zhǔn)組織的政策動態(tài)，從整體發(fā)展、國別情況和覆蓋領(lǐng)域等維度對相關(guān)標(biāo)準(zhǔn)必要專利數(shù)據(jù)進行統(tǒng)計和分析。
第三部分分析主要國家(地區(qū))標(biāo)準(zhǔn)必要專利有關(guān)政策。梳理了美國、歐盟、英國、日本、韓國等主要國家(地區(qū))關(guān)于標(biāo)準(zhǔn)必要專利的最新法規(guī)政策、行政和司法情況，繪制了政策演進脈絡(luò)圖，展現(xiàn)了相關(guān)治理動向和發(fā)展趨勢。
第四部分概述標(biāo)準(zhǔn)必要專利許可實踐與爭議解決新趨勢。從無線通信、音視頻等領(lǐng)域的許可實踐和爭議解決案例，闡述了標(biāo)準(zhǔn)必要專利許可交易主體多元化，實踐覆蓋范圍廣域化、糾紛爭議解決全球化的新趨勢。
第五部分總結(jié)我國標(biāo)準(zhǔn)必要專利的政策與實踐。介紹了我國重要政策性文件中對標(biāo)準(zhǔn)必要專利的工作部署，歸納了我國在標(biāo)準(zhǔn)必要專利各環(huán)節(jié)的制度，量化分析了我國國家標(biāo)準(zhǔn)和團體標(biāo)準(zhǔn)中涉及專利的具體情況和趨勢。
第六部分對標(biāo)準(zhǔn)專利協(xié)同創(chuàng)新發(fā)展賦能新質(zhì)生產(chǎn)力進行展望。結(jié)合有關(guān)情況分析，提出了標(biāo)準(zhǔn)必要專利五個方面的發(fā)展趨勢，并對政府部門、市場主體、科研機構(gòu)做好相關(guān)工作提出了建議。
中國標(biāo)準(zhǔn)化研究院將持續(xù)關(guān)注標(biāo)準(zhǔn)必要專利最新發(fā)展，并與各界合作，不斷深化相關(guān)研究，更新發(fā)布系列年度報告，為標(biāo)準(zhǔn)必要專利的整體發(fā)展貢獻力量。報告中所使用的政策和案例均來自公開可獲得的官方或者權(quán)威網(wǎng)站。報告所附網(wǎng)頁鏈接的最后訪問日期為2024年9月22日?；A(chǔ)數(shù)據(jù)來源于國際標(biāo)準(zhǔn)化組織(ISO)、國際電工委員會(IEC)和國際電信聯(lián)(ITU)三大國際標(biāo)準(zhǔn)組織，以及中國標(biāo)準(zhǔn)化研究院官方數(shù)據(jù)庫。數(shù)據(jù)截止日期為2023年12月31日。由于標(biāo)準(zhǔn)必要專利信息披露過程中，可能存在一攬子披露、不完全披露或者過度披露等問題，會導(dǎo)致統(tǒng)計結(jié)果與實際情況存在差異，如有不當(dāng)之處煩請各位讀者不吝指正。
附件: 《標(biāo)準(zhǔn)必要專利發(fā)展報告(2024年)》全文
(原標(biāo)題：《標(biāo)準(zhǔn)必要專利發(fā)展報告(2024年)》全文公開發(fā)布)
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