原標(biāo)題：專代實務(wù)考前劃重點系列（九）｜單一性：完成關(guān)鍵判斷，輕松得分
本期文章將繼續(xù)從實務(wù)考試中具體考點以及案例來詳細拆解，本期我們重點關(guān)注的專利代理師實務(wù)考試中的另一考點“單一性”。單一性屬于每年必考的考點，但也是技巧性非常強的考點，只要將出題思路掌握，便可以輕松得分。
首先還是需要確定單一性的基本概念，通過《專利法》31條的規(guī)定，屬于一個總的發(fā)明構(gòu)思的兩項以上的發(fā)明或者實用新型，可以作為一件申請?zhí)岢觥?/p>
在實務(wù)考試中，判斷所撰寫的權(quán)利要求書是否具有單一性，主要是判斷技術(shù)方案中是否同時解決彼此相互獨立的兩個以上的技術(shù)問題，如是，那么撰寫得到的權(quán)利要求書也將涉及兩套相互獨立的技術(shù)方案，此時便可以進行分案。
下面結(jié)合案例進行分析講解：
案例一：2014年
此處仍采用之前講解權(quán)利要求書時的權(quán)利要求樹，為了方便考生理解，在權(quán)利要求樹中對不同的問題標(biāo)記成了不同的顏色，對于第一個技術(shù)問題，用藍色進行了標(biāo)記;對于第二個技術(shù)問題，用紅色進行了標(biāo)記。
圖5
具體來看：
在技術(shù)方案中涉及的第一個技術(shù)問題相對于現(xiàn)有技術(shù)作出貢獻的特征為“光催化空氣凈化器內(nèi)還設(shè)置有消聲機構(gòu)9”，從而解決凈化器噪音大的問題。
在技術(shù)方案中涉及的第二個技術(shù)問題相對于現(xiàn)有技術(shù)作出貢獻的特征為“光催化劑板是負載有納米二氧化鈦的三維蜂窩陶瓷網(wǎng)15” 從而解決催化反應(yīng)不充分，空氣凈化不徹底的技術(shù)問題。
由此可見，兩個技術(shù)方案對現(xiàn)有技術(shù)作出貢獻的技術(shù)特征既不相同，也不相應(yīng)，彼此之間在技術(shù)上也無相互關(guān)聯(lián)，因此兩個技術(shù)方案之間并不包含相同或相應(yīng)的特定技術(shù)特征，不屬于一個總的發(fā)明構(gòu)思，彼此之間不具備單一性，因此應(yīng)當(dāng)分別作為兩件專利申請提出。
案例二：2013年
采用與案例一相同的答題思路，結(jié)合之前撰寫得到的權(quán)利要求書，可知在權(quán)利要求書中涉及兩個技術(shù)問題。技術(shù)問題1：進一步提高通風(fēng)效果;技術(shù)問題2：導(dǎo)軌容易積塵從而卡住底板。
在技術(shù)方案中涉及的第一個技術(shù)問題相對于現(xiàn)有技術(shù)作出貢獻的特征為“通風(fēng)孔6”，從而解決由于通風(fēng)不暢容易導(dǎo)致垃圾缺氧而腐化發(fā)臭的問題。
在技術(shù)方案中涉及的第二個技術(shù)問題相對于現(xiàn)有技術(shù)作出貢獻的特征為“濾水板5進一步設(shè)置成可活動的”，從而解決導(dǎo)軌容易積塵從而卡住底板的技術(shù)問題。
由此可見，兩個技術(shù)方案對現(xiàn)有技術(shù)作出貢獻的特定技術(shù)特征既不相同，也不相應(yīng)，彼此之間在技術(shù)上也無相互關(guān)聯(lián)，因此兩個技術(shù)方案之間并不包含相同或相應(yīng)的特點技術(shù)特征，不屬于一個總的發(fā)明構(gòu)思，彼此之間不具備單一性，因此應(yīng)當(dāng)分別作為兩件專利申請?zhí)岢觥?/p>
下面對單一性的知識點進行總結(jié)：
a.對于單一性的考察出現(xiàn)在權(quán)利要求書撰寫的題目之后，縱觀多年的真題，一定會考察沒有單一性的情形。
b.在答題過程中，嚴格按照模板進行答復(fù)即可得分，模板如下：
“交底材料中涉及的第一個技術(shù)問題相對于現(xiàn)有技術(shù)作出貢獻的技術(shù)特征為“AAA”，從而解決“BB”;
交底材料中涉及的第二個技術(shù)問題相對于現(xiàn)有技術(shù)作出貢獻的技術(shù)特征為“CCC”，從而解決“DD” 。
由此可見，兩個技術(shù)方案對現(xiàn)有技術(shù)作出貢獻的特定技術(shù)特征既不相同，也不相應(yīng)，彼此之間在技術(shù)上也無相互關(guān)聯(lián)，因此兩個技術(shù)方案之間并不包含相同或相應(yīng)的特點技術(shù)特征，不屬于一個總的發(fā)明構(gòu)思，彼此之間不具備單一性，因此應(yīng)當(dāng)分別作為兩件專利申請?zhí)岢觥?/p>
課程總結(jié)
a.在權(quán)利要求書評價題中，一定會出現(xiàn)的考點有：新穎性、創(chuàng)造性、從屬權(quán)利要求主題名稱錯誤、權(quán)利要求書引用關(guān)系錯誤導(dǎo)致權(quán)利要求書不清楚;獨立權(quán)利要求缺少必要技術(shù)特征、權(quán)利要求書得不到說明書支持會隨機出現(xiàn);
b.如果對比文件設(shè)置為三篇，那么第一篇通常會作為抵觸申請評價權(quán)利要求1的新穎性，對比文件2和3作為現(xiàn)有技術(shù)評價權(quán)利要求的創(chuàng)造性;
c.創(chuàng)造性的評述嚴格按照對比文件是否公開區(qū)別技術(shù)特征，區(qū)別技術(shù)特征的作用是否一致來判斷，不必引入其他考量因素;
d.在權(quán)利要求書撰寫題中，題目中通常會直接給出兩個技術(shù)問題，在每個技術(shù)問題的后續(xù)段落中出現(xiàn)的技術(shù)方案為從屬權(quán)利要求中的內(nèi)容;
e.在權(quán)利要求書撰寫題中，直接將出現(xiàn)的技術(shù)方案照搬到權(quán)利要求書中即可;
f.在權(quán)利要求書撰寫題中，注意權(quán)利要求書的層次，方便進行分案處理。
以上是考前劃重點系列的最后的內(nèi)容部分，希望本系列的分享能夠在大家考試復(fù)習(xí)以及日常工作中起到幫助的作用，預(yù)祝大家考試順利通過，期待后續(xù)多多交流。
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